一,应用案例概述
清洗对象: |
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清洗条件: |
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清洗目的: |
去除表面粘接胶。 |
清洗要求: |
表面脏污去除彻底,无残留。 |
工艺流程: |
浸泡——漂洗——漂洗——慢拉——烘干 |
关键字:光学玻璃,脱胶、水性、清洗剂
二,清洗样品材料说明
工件为光学玻璃盖板,表面有粘接胶,清洗剂方案设计需在保证不腐蚀玻璃的前提下,光学玻璃表面完全无残留。
三,产品选择
光学玻璃清洗剂是一种市场发展比较迅速,对清洗车间的水质要求非常高的清洗剂,在保证成本低廉的前提下,需要清洗剂具有优异的漂洗性和对污垢的清洗效果。经实验室测试,此玻璃表面的胶能在强碱性环境下有较好的溶解效果。本配方主要使用常见的无机助剂搭配海沃维斯表面活性剂来达到清洗效果。在产品选择上,需要考虑活性剂的漂洗性和优异的油污、胶类的溶解性。在中温超声波条件下,活性剂的选择,需要满足有机胶去除及渗透效果,并且考虑对材料的适应性,结合海沃维斯产品的特点,表面活性剂选择耐碱超高渗透的活性剂FS-4,在超声波条件下,清洗力强,易漂洗。分散剂则选择有优秀螯合分散效果的产品FS-1。为了更好的确保清洗效果,结合材料的兼容性,增强除油的皂化能力,添加部分碱性物质,从清洗效果和螯合能力考虑碱性成分选择五水偏硅酸钠和三乙醇胺。按照以上设想,确定如下方案。
四,产品配方
KOH |
5% |
三乙醇胺 |
7% |
五水偏硅酸钠 |
10% |
FS-4 |
5% |
FS-1 |
8% |
水 |
65% |
配方主要参数如下:
5%PH |
碱度(总碱/游离碱)/ml |
25℃泡沫/mm |
50℃泡沫/mm |
浊点/℃ |
12.89 |
13.1/10.8 |
65mm, 50mm |
55mm, 40mm |
55℃ |
五,清洗实验过程
按照5%开槽试验,使用手机白片玻璃做中温(60℃)浸泡测试,结果如下:
时间/分钟 |
数量 |
玻璃腐蚀性 |
清洗效果 |
判定 |
5 |
5组X2片 |
无腐蚀 |
10片全部清洗干净 |
OK |
六,清洗实验结果
该方案按照5%-10%开槽中温超声波使用状态下,PH值在13左右(具体需参考水质及浓度),中温超声波状态下,清洗效果好,速度快,对玻璃无腐蚀,工件清洗后烘干,表面色泽光亮,无水印,无白点,无灰尘。清洗剂无刺激性气味,成本低廉,适合光学手机光学玻璃水性加温脱胶剂。